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Ponto de derretimento 2812ºC do Cas 12055-23-1 do pó do óxido do háfnio da análise espectroscópica

Ponto de derretimento 2812ºC do Cas 12055-23-1 do pó do óxido do háfnio da análise espectroscópica

Spectroscopic Analysis Hafnium Oxide Powder Cas 12055-23-1 2812ºC Melting Point
Spectroscopic Analysis Hafnium Oxide Powder Cas 12055-23-1 2812ºC Melting Point Spectroscopic Analysis Hafnium Oxide Powder Cas 12055-23-1 2812ºC Melting Point Spectroscopic Analysis Hafnium Oxide Powder Cas 12055-23-1 2812ºC Melting Point

Imagem Grande :  Ponto de derretimento 2812ºC do Cas 12055-23-1 do pó do óxido do háfnio da análise espectroscópica Melhor preço

Detalhes do produto:

Lugar de origem: Hunan China
Marca: EASCHEM
Certificação: ISO
Número do modelo: de primeiro grau

Condições de Pagamento e Envio:

Quantidade de ordem mínima: 50KGS
Preço: US500-1000.0/KG
Detalhes da embalagem: saco de plástico tecido 50KGs, pálete 1000KGs um
Tempo de entrega: 7 a 15 dias
Termos de pagamento: Western Union, T/T, l/C
Habilidade da fonte: 100TONS/MÊS
Descrição de produto detalhada
Fórmula molecular: HfO2 Peso molecular: 210,4888
EINECS: 235-013-2 Aparência: pó branco
Número de CAS: 12055-23-1 Ponto de derretimento: 2812ºC
Realçar:

Trióxido de antimónio

,

trióxido de arsênico

Pó do óxido do háfnio com cas nenhum 12055-23-1 usado na análise espectroscópica
 
Peso molecular 210,4888
InChI 1/Hf.2O/rHfO2/c2-1-3
EINECS 235-013-2
Dados físicos
Aparência:  Pó branco
Densidade 9,68 g/mL no ºC 25 (iluminado.)
Ponto de derretimento 2812ºC
Nome de UPAC: dioxohafnium
A proporção de índice do elemento: O (oxigênio) 15,2%, Hf (háfnio) 84,8%
Estrutura molecular do óxido do háfnio dois
Densidade: 9.68g/cm3
Ponto de derretimento: 2758 graus centígrado
Massa da toupeira: 210,49 g/mol
CAS: 12055-23-1
Pressão da evaporação: em 2678 centígrados, 1Pa; em 2875 C, 10Pa
Coeficiente da expansão linear: 5,6 x 10-6/K
Solubilidade: insolúvel na água
Pureza: 99,99
Características do filme: escala clara do transmitância a 220 ~ 12000Nm; R.I. (250nm) ~ 2,15 (500nm) ~ 2
Condições da evaporação: usando uma arma de elétron, pressão parcial do oxigênio a 1~2 * 10-2Pa. A temperatura da evaporação é 2600~2800, a temperatura da carcaça é 250, e a taxa de evaporação é 2nm/s
Campo da aplicação: Filme de antirreflexo UV, membrana da interferência
HfO2+Zr (%, minuto) minuto 99,9% conforme-se
RE impurezas (%, máximos)
Fe 0,0002 conforme-se
Al 0,0001 conforme-se
Si 0,002 conforme-se
Si 0,01 conforme-se
B 0,0025 conforme-se
Pb 0,001 conforme-se
CD 0,0001 conforme-se
Cu 0,002 conforme-se
Cr 0,005 conforme-se
Magnésio 0,001 conforme-se
Mo 0,001 conforme-se
Manganês 0,001 conforme-se
Ni 0,0015 conforme-se
Sn 0,002 conforme-se
V 0,001 conforme-se
L.O.I (1100℃) 1 conforme-se
O outro índice
Tamanho de partícula (milímetros) 0.1-3 conformam-se
 

Ponto de derretimento 2812ºC do Cas 12055-23-1 do pó do óxido do háfnio da análise espectroscópica 0

 

Ponto de derretimento 2812ºC do Cas 12055-23-1 do pó do óxido do háfnio da análise espectroscópica 1

 

Contacto
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Pessoa de Contato: andrew.liao

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